自潔(jie)涂料高(gao)剪切研磨分散機(ji)轉子速度可(ke)以(yi)達到66m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成(cheng)的(de)湍(tuan)流(liu)結合(he)專門研制(zhi)的(de)電機(ji)可(ke)以(yi)使粒徑范圍小到納米級。剪切力更(geng)強,乳液的(de)粒徑分布更(geng)窄。
自潔涂料高剪切研磨分散機
納米超(chao)親水(shui)自潔(jie)涂料(liao)高速分(fen)散機,二氧(yang)化硅分(fen)散機,納米二氧(yang)化硅高速分(fen)散機,納米防(fang)水(shui)涂料 ,水性超親水無機納米樹脂(zhi)高速分散機是(shi)指將不溶固(gu)體顆粒分(fen)(fen)(fen)散(san)到(dao)液(ye)體中(zhong)在液(ye)體介(jie)質中(zhong)的分(fen)(fen)(fen)散(san)體系。在分(fen)(fen)(fen)散(san)過程(cheng)中(zhong),往(wang)往(wang)需要(yao)減(jian)小(xiao)固(gu)體顆粒,這就是濕磨或高剪切分(fen)(fen)(fen)散(san)。
超(chao)親(qin)水自清潔涂料是由水性超(chao)親(qin)水無機納米樹脂,配合高活性光觸媒配制(zhi)而成。在太陽(yang)光的照射和雨水沖(chong)刷下下可有(you)效保(bao)持表(biao)面(mian)(mian)的潔凈,減少灰塵和臟污附著,另外涂層具有(you)增(zeng)透作用,有(you)效增(zeng)加(jia)可見(jian)光的透過率(lv)。可廣泛用于太陽(yang)能(neng)電(dian)池板表(biao)面(mian)(mian)、建筑(zhu)玻璃幕(mu)墻清潔、鏡面(mian)(mian)防霧、汽車后視鏡防雨滴等市場領域。
經過簡單擦涂、噴涂,可在30min常溫迅速固化。
如何快速分散親水無機納米樹脂 是需要解決問題
1 分散頭的形式(批(pi)次式和連續式)(連續式比批(pi)次好(hao))
2 分散頭的剪切速率(lv) (越大,效果越好(hao))
3 分(fen)散頭的齒(chi)(chi)形結構(分(fen)為初齒(chi)(chi),中齒(chi)(chi),細齒(chi)(chi),超細齒(chi)(chi),約細齒(chi)(chi)效(xiao)果越(yue)好)
4 物料在分(fen)散(san)墻(qiang)體(ti)的(de)停(ting)留時(shi)間,乳化分(fen)散(san)時(shi)間(可(ke)以看作同(tong)等的(de)電(dian)機(ji),流量(liang)越(yue)小(xiao),效果越(yue)好)
5 循(xun)環次數(越(yue)多,效果越(yue)好,到設備的期(qi)限,就不能再(zai)好)
線速度的(de)計(ji)算
剪切(qie)速(su)率的定義是(shi)兩表面(mian)之間液(ye)體層(ceng)的相對速(su)率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由(you)上(shang)可知,剪(jian)切速率取決于(yu)以(yi)下因素:
– 轉(zhuan)子的線(xian)速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
SID定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直(zhi)徑)X 轉速 RPM / 60
高的(de)(de)轉(zhuan)速(su)(su)(su)和剪切率對于(yu)獲得超(chao)細(xi)微懸浮液是*重(zhong)要(yao)的(de)(de)。根據一些(xie)行業特殊(shu)要(yao)求,希德公司在XM2000系列的(de)(de)基礎上又開發出XMD2000超(chao)高速(su)(su)(su)剪切研(yan)磨分(fen)散機(ji)。其剪切速(su)(su)(su)率可(ke)以超(chao)過20000 rpm,轉(zhuan)子(zi)的(de)(de)速(su)(su)(su)度(du)可(ke)以達(da)到66m/s。在該速(su)(su)(su)度(du)范圍(wei)內,由(you)剪切力所造成(cheng)的(de)(de)湍(tuan)流結合專門(men)研(yan)制的(de)(de)電機(ji)可(ke)以使粒徑范圍(wei)小(xiao)到納米(mi)級(ji)。剪切力更強,乳液的(de)(de)粒經(jing)分(fen)布更窄。由(you)于(yu)能量密度(du)*,無需其他(ta)輔助分(fen)散設備,可(ke)以達(da)到普通的(de)(de)高壓均質機(ji)的(de)(de)400BAR壓力下的(de)(de)顆粒大小(xiao).
2、設備特(te)點
⑴ XMD設備與傳統(tong)設備相比:
高效、節能
傳統(tong)設(she)備需8小時(shi)的分(fen)散(san)加工過程,ERS設(she)備1小時(shi)左右完(wan)成,超(chao)細分(fen)散(san)*,能耗*降低;
高速、高品質
傳統設備(bei)的(de)攪拌(ban)轉(zhuan)速每(mei)分鐘(zhong)幾十轉(zhuan),帶分散(san)(san)功(gong)能的(de)轉(zhuan)速每(mei)分鐘(zhong)1500轉(zhuan)以內,只完成宏觀分散(san)(san)加工,超細(xi)(xi)分散(san)(san)能力極為有限;ERS設備(bei)的(de)轉(zhuan)速每(mei)分鐘(zhong)10000~15000轉(zhuan)之間(jian),超高線速度產生的(de)剪切力,瞬間(jian)超細(xi)(xi)分散(san)(san)漿料中的(de)粉體。
⑵ XMD設備(bei)與(yu)同類設備(bei)相比:
多(duo)層多(duo)向剪切(qie)分散
同(tong)類設(she)備的(de)(de)定(ding)轉子(zi)等部件(jian)結構單一,多(duo)級多(duo)層的(de)(de)結構是單純(chun)重(zhong)復(fu)性加工,相同(tong)的(de)(de)齒槽結構易(yi)發(fa)生物料未(wei)經分散便(bian)通過工作(zuo)腔的(de)(de)短路現象;
XMD設備的(de)定(ding)轉子結(jie)構(gou)采用多(duo)層(ceng)多(duo)向(xiang)剪切(qie)(qie)概念(nian),裝配式結(jie)構(gou)使物料得到不同方向(xiang)剪切(qie)(qie)分(fen)散,杜絕了短路現象,超細分(fen)散更為*。
XMD2000進口超高剪切研磨分散機
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以(yi)下為(wei)型(xing)號(hao)表供參考:
型號(hao) | 標準(zhun)流(liu)量(liang) L/H | 輸出轉速(su) rpm | 標準(zhun)線速(su)度 m/s | 馬達(da)功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
自潔涂料高剪切研磨分散機