氣硅(gui)光油高剪切研磨分散機不斷(duan)地(di)從徑向(xiang)高速(su)射出(chu),在物料(liao)(liao)本身和容器壁的(de)阻力下(xia)改變(bian)流(liu)向(xiang),與(yu)此同(tong)時在轉子(zi)區產生的(de)上、下(xia)軸向(xiang)抽吸力的(de)作用下(xia),又形(xing)成(cheng)上、下(xia)兩(liang)股強烈(lie)的(de)翻動紊流(liu)。物料(liao)(liao)經過(guo)數次循環,完成(cheng)分散過(guo)程。
氣硅光油高剪切研磨分散機
二氧化硅高(gao)速分(fen)散機 , 樹脂(zhi)高速(su)(su)分(fen)散機和氣硅(gui)高速(su)(su)分(fen)散機,消光(guang)粉高速(su)(su)分(fen)散機是 是(shi)指(zhi)將不溶(rong)固體(ti)顆粒分散(san)到液體(ti)中在液體(ti)介(jie)質中的分散(san)體(ti)系。在分散(san)過(guo)程(cheng)中,往(wang)往(wang)需要減(jian)小固體(ti)顆粒,這就是(shi)濕磨(mo)或高剪切分散(san)。
光油是一種(zhong)合成樹脂,現通常是指表面透明清(qing)漆,有(you)基(ji)料和助劑等做成,不加任何顏(yan)料,成膜(mo)后油光(guang)發亮,俗(su)稱叫清(qing)漆,有(you)UV光(guang)油與(yu)PU光(guang)油之分(fen)。
測試工藝(yi)
步驟一:反應(ying)釜(fu)1中配好樹脂和氣(qi)硅,然后使(shi)用齒輪泵的吸力(li)(流量可調)使(shi)物料通過(guo)分散器,打到反應釜2,期間檢測(ce)反應釜2中(zhong)物料的分(fen)散情況是否(fou)達標。
期(qi)間測試多高的轉速能分散氣(qi)硅(gui)。
步驟二:反應(ying)釜2中加(jia)入(ru)消光(guang)粉(fen),使用較低轉(zhuan)速的(de)分(fen)散能(neng)力,達到消光(guang)粉(fen)能(neng)分(fen)散但(dan)又不(bu)被分(fen)散得太(tai)細降(jiang)低消光(guang)效果的(de)程度。
期(qi)間測試多高的轉速(su)達到合(he)適(shi)的分散效果。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸(shu)出轉速 rpm | 標(biao)準(zhun)線速度(du) m/s | 馬達功(gong)率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸(cun) |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
氣硅光油高剪切研磨分散機